図解入門よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み : リソグラフィ技術の核心に迫る : 微細化の鍵

佐藤淳一 著

プロセスフローを例にして基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。

「BOOKデータベース」より

[目次]

  • リソグラフィ技術とは引き算のプロセス?
  • 光リソグラフィの発展
  • 露光技術と装置
  • レジスト材料
  • レジスト塗布と現像
  • マスクとリソグラフィ技術
  • EUVリソグラフィ
  • リソグラフィの計測技術
  • 多彩なパターニング技術
  • CMOSロジックプロセス(フロントエンド)
  • a-Si TFTプロセス
  • a-Si太陽電池プロセス

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 図解入門よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み : リソグラフィ技術の核心に迫る : 微細化の鍵
著作者等 佐藤 淳一
書名ヨミ ズカイ ニュウモン ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ リソグラフィ ノ キホン ト シクミ : リソグラフィ ギジュツ ノ カクシン ニ セマル : ビサイカ ノ カギ
シリーズ名 How-nual visual guide book
出版元 秀和システム
刊行年月 2011.10
ページ数 271p
大きさ 21cm
ISBN 978-4-7980-3063-0
NCID BB07554941
※クリックでCiNii Booksを表示
全国書誌番号
21996907
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
出版国 日本
この本を: 
このエントリーをはてなブックマークに追加

このページを印刷

外部サイトで検索

この本と繋がる本を検索

ウィキペディアから連想