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薄膜の基本技術
金原粲 著
[目次]
- 1. はじめに
- 2. 薄膜作製に必要な真空装置の基礎(基本的な真空装置
- 真空ポンプの原理)
- 3. 真空蒸着法(基本的な公式
- 蒸着薄膜作製の具体例)
- 4. スパタリング法(スパタリングの基本
- 基本的なスパタリング装置-二極直流スパタリング法)
- 5. プラズマプロセス(プラズマCVD
- イオンプレーティング)
- 6. 膜厚測定法(膜厚とは何か
- 繰返し反射干渉法
- 電気抵抗法)
- 7. 関連技術(単結晶薄膜の作製技術
- 非晶質薄膜の作製技術
- 電極の蒸着)
「BOOKデータベース」より
[目次]
- 1 真空装置の基本(真空の必要性
- 基本的構成 ほか)
- 2 真空蒸着法(真空蒸着と基板
- 気体に関する基本的な法則と公式 ほか)
- 3 スパッタリング法(放電とプラズマ
- 放電プラズマの基礎 ほか)
- 4 膜厚測定法(膜厚とは:その多様性
- 膜厚の分類 ほか)
- 5 関連技術(ガラスその他の基板洗浄
- 電気抵抗測定 ほか)
「BOOKデータベース」より
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書名 |
薄膜の基本技術 |
著作者等 |
金原 粲
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書名ヨミ |
ハクマク ノ キホン ギジュツ |
シリーズ名 |
物理工学実験 5
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出版元 |
東京大学出版会 |
刊行年月 |
1976.12 |
版表示 |
第3版 |
ページ数 |
148p |
大きさ |
21cm |
ISBN |
978-4-13-062840-2
|
NCID |
BA86623394
BN00580937
BN01422829
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全国書誌番号
|
77022483
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言語 |
日本語 |
出版国 |
日本 |
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