薄膜の基本技術

金原粲 著

[目次]

  • 1. はじめに
  • 2. 薄膜作製に必要な真空装置の基礎(基本的な真空装置
  • 真空ポンプの原理)
  • 3. 真空蒸着法(基本的な公式
  • 蒸着薄膜作製の具体例)
  • 4. スパタリング法(スパタリングの基本
  • 基本的なスパタリング装置-二極直流スパタリング法)
  • 5. プラズマプロセス(プラズマCVD
  • イオンプレーティング)
  • 6. 膜厚測定法(膜厚とは何か
  • 繰返し反射干渉法
  • 電気抵抗法)
  • 7. 関連技術(単結晶薄膜の作製技術
  • 非晶質薄膜の作製技術
  • 電極の蒸着)

「BOOKデータベース」より

[目次]

  • 1 真空装置の基本(真空の必要性
  • 基本的構成 ほか)
  • 2 真空蒸着法(真空蒸着と基板
  • 気体に関する基本的な法則と公式 ほか)
  • 3 スパッタリング法(放電とプラズマ
  • 放電プラズマの基礎 ほか)
  • 4 膜厚測定法(膜厚とは:その多様性
  • 膜厚の分類 ほか)
  • 5 関連技術(ガラスその他の基板洗浄
  • 電気抵抗測定 ほか)

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 薄膜の基本技術
著作者等 金原 粲
書名ヨミ ハクマク ノ キホン ギジュツ
シリーズ名 物理工学実験 5
出版元 東京大学出版会
刊行年月 1976.12
版表示 第3版
ページ数 148p
大きさ 21cm
ISBN 978-4-13-062840-2
NCID BA86623394
BN00580937
BN01422829
※クリックでCiNii Booksを表示
全国書誌番号
77022483
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
出版国 日本
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