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フォトポリマーの基礎と応用
山岡亜夫 監修
[目次]
- 第1編 フォトポリマーの科学(フォトポリマーの基礎
- 光機能材料を支えるフォトケミストリー ほか)
- 第2編 レジスト材料の最新応用技術(金属エッチング用レジスト
- フォトファブリケーション用レジスト ほか)
- 第3編 ディスプレイとフォトポリマー(カラーフィルター
- UV硬化樹脂の位相差フィルム(LCD))
- 第4編 フォトポリマーの新展開(表面光反応と表面機能化
- 広がりゆく応用 ほか)
「BOOKデータベース」より
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書名 |
フォトポリマーの基礎と応用 |
著作者等 |
山岡 亜夫
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書名ヨミ |
フォトポリマー ノ キソ ト オウヨウ |
書名別名 |
実用高分子レジスト材料の新展開 |
シリーズ名 |
CMCテクニカルライブラリー 136
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出版元 |
シーエムシー |
刊行年月 |
2003.3 |
版表示 |
普及版 |
ページ数 |
336p |
大きさ |
21cm |
ISBN |
4882317877
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NCID |
BA61571778
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全国書誌番号
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20510452
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言語 |
日本語 |
出版国 |
日本 |
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