フォトポリマーの基礎と応用

山岡亜夫 監修

[目次]

  • 第1編 フォトポリマーの科学(フォトポリマーの基礎
  • 光機能材料を支えるフォトケミストリー ほか)
  • 第2編 レジスト材料の最新応用技術(金属エッチング用レジスト
  • フォトファブリケーション用レジスト ほか)
  • 第3編 ディスプレイとフォトポリマー(カラーフィルター
  • UV硬化樹脂の位相差フィルム(LCD))
  • 第4編 フォトポリマーの新展開(表面光反応と表面機能化
  • 広がりゆく応用 ほか)

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 フォトポリマーの基礎と応用
著作者等 山岡 亜夫
書名ヨミ フォトポリマー ノ キソ ト オウヨウ
書名別名 実用高分子レジスト材料の新展開
シリーズ名 CMCテクニカルライブラリー 136
出版元 シーエムシー
刊行年月 2003.3
版表示 普及版
ページ数 336p
大きさ 21cm
ISBN 4882317877
NCID BA61571778
※クリックでCiNii Booksを表示
全国書誌番号
20510452
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
出版国 日本
この本を: 
このエントリーをはてなブックマークに追加

このページを印刷

外部サイトで検索

この本と繋がる本を検索

ウィキペディアから連想