はじめての半導体リソグラフィ技術

岡崎信次, 鈴木章義, 上野巧 著

半導体集積回路の発展を支えてきたのは、微細なパターンを造り出す半導体リソグラフィ技術である。本書はこの変遷の激しいリソグラフィ技術の全貌を解説したもの。具体的には、光、電子線、X線・EUVなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べるとともに、パターン形成に重要なマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれ、さらに今後の課題と展望についても詳細に解説している。

「BOOKデータベース」より

[目次]

  • 第1章 半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術
  • 第2章 光リソグラフィ技術
  • 第3章 電子線リソグラフィ技術
  • 第4章 X線・EUVリソグラフィ技術
  • 第5章 その他のリソグラフィ技術
  • 第6章 マスク技術
  • 第7章 レジスト技術
  • 第8章 評価計測技術
  • 第9章 リソグラフィ技術の今後の課題と展望

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 はじめての半導体リソグラフィ技術
著作者等 上野 巧
岡崎 信次
鈴木 章義
書名ヨミ ハジメテ ノ ハンドウタイ リソグラフィ ギジュツ
シリーズ名 ビギナーズブックス 29
出版元 工業調査会
刊行年月 2003.6
ページ数 305p
大きさ 21cm
ISBN 4769312245
NCID BA62674459
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全国書誌番号
20562284
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
出版国 日本
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